- 2nm工藝志在必得 日本三大EUV光刻膠巨頭巨資擴產(chǎn)
- 美國初創(chuàng)公司Substrate宣布光刻新技術(shù),挑戰(zhàn)ASML與臺積電
- 臺積電棄購4億ASML光刻機 轉(zhuǎn)用低成本方案攻堅2納米
- 三星加購兩臺High NA EUV光刻機,增強2nm代工工藝
- 瞄準Intel 14A工藝,消息稱英特爾加購兩臺High NA EUV光刻機
- 俄羅斯公布EUV光刻機路線圖,采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機路線圖:2036年實現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 清華大學李星輝團隊在跨尺度結(jié)構(gòu)混合光刻制備技術(shù)領(lǐng)域取得重要進展
- 傳中芯國際在測試首款國產(chǎn)28納米DUV光刻機
- 傳光刻機巨頭ASML將13億歐元入股“法國OpenAI”