国产化加快步伐 光刻机发展前景分析

中商情报网讯：光刻机作为芯片产业的核心装备，是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷兰政府发布光刻机新出口管制，ASML需要申请出口许可，才能装运最先进的浸没式DUV系统。为了避免在芯片产能爬坡时被外界的设备供应给“卡脖子”，国产光刻机正在加快突破。

一、光刻机行业发展现状

1.光刻机销量

全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,相关芯片的需求增加。2021年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约650台，较2020年增加70台。其中集成电路制造用光刻机出货约500台；面板、LED用光刻机出货约150台。2021年全球光刻机销量为450台，随着下游市场需求持续升高，预计2023全球市场仍将持续增长，销量将超550台。

数据来源：中商产业研究院整理

2.光刻机成本占比

光刻机可用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。2021年全球前道光刻设备市场规模为172亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于蚀刻设备。光刻机价格昂贵，ASML当前EUV光刻机单价为1.5亿-2亿美元。

数据来源：SEMI、中商产业研究院整理

3.光刻机行业竞争格局

全球光刻机市场的主要竞争者为ASML、Nikon和Canon。2022年三大企业光刻机营收合计接近200亿美元，合计市场份额超过90%。其中，ASML光刻机营收约161亿美元，较2021年增长了23%，Canon光刻机营收约为20亿美元，Nikon光刻机业务营收约15亿美元。ASML市场份额占比82.1%，占绝对龙头地位。

从产品出货类型来看，ASML在超高端光刻机领域一家独大，如EUV、ArFi等类型光刻机，产品众多；Canon与Nikon产品部分光刻机用于面板业，部分用于半导体，Canon目前产品集中于特定工艺领域的i-Line和KrF设备，Nikon拥有除了EUV以外的所有类型光刻机产品，出货量少于前两家。

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二、光刻机企业分析

1.国内重点企业

上海微电子深耕光刻机产品研发，承担多项专项科研任务。目前公司光刻机产品主要包括IC前道光刻机、IC后道封装光刻机、面板前道光刻机、面板后道封装光刻机。作为国内光刻机设备领域的领航者，上海微电子承担着国产光刻机设备的希望，若能实现光刻机设备的国产化，中国大力发展的半导体产业必将迈上一个新台阶。

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2.光刻机零部件相关厂商

光刻机由光源、照明系统、物镜、工件台等部件组装而成，相关环节企业进度如下：

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三、光刻机发展前景

1.政策利好行业发展

我国光刻机产业起步较晚，光刻设备需要长期大量依赖进口，自主可控需求日益突出。同时，由于光刻机属于高精端产品，其产能有限。因此，从国家安全层面来讲，核心技术必须做到独立自主，相关政策也持续推出。

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我国对于光刻机行业较为重视。对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。

2.半导体市场增长带动行业发展

全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,带动相关芯片的需求。伴随着成为世界电子产业核心，中国目前已经成为最大的半导体市场，并且继续保持最快的增速。光刻机作为芯片产业链上游的重要组成部分，受此影响得到大力推动。

3.国产代替进口需求推动行业发展

目前光刻机市场主要由国外三大企业所垄断，随着中国大陆代工厂的不断扩建，未来对于国产光刻机的需求不断提升，而当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距。但为应对国外技术出口管制风险，国产光刻机需求上涨，推动行业加速发展。